目前日期文章:201505 (2)

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物理氣相沉積(Physical Vapor DepositionPVD),意指在真空條件下,用物理的方法將蒸發源材料蒸發,如加熱、電子束、離子束、濺射、電弧等,使材料蒸發後,氣體原子或電漿型態,經由真空、低壓氣體或電漿環境,利用氣體放電是靶材蒸鍍,輸送至基材表層,再於表面沉積形成鍍膜。

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在達真空的容器中、將欲蒸鍍的材料加熱直至汽化昇華、並使此氣體附著於放置在附近的機板表面上、型成一層薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為、抵抗加熱、電子束、高周波誘導、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有亞鉛白金等金屬材料與可產生光學特性薄膜的材料,主要有使用SiO2TiO2ZrO2MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹脂和樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙也變成可以處理了。

成膜時依基板與蒸鍍材料可先使用RF電漿與離子槍照射來使蒸鍍有更高的密著度。但是、被蒸鍍物是樹的時候這樣做會造成反效果,因此在被蒸鍍物的材質不明確下必須進行調查與事前的實驗以免造成失敗。

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