目前分類:真空薄膜 (2)

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在達真空的容器中、將欲蒸鍍的材料加熱直至汽化昇華、並使此氣體附著於放置在附近的機板表面上、型成一層薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為、抵抗加熱、電子束、高周波誘導、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有亞鉛白金等金屬材料與可產生光學特性薄膜的材料,主要有使用SiO2TiO2ZrO2MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹脂和樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙也變成可以處理了。

成膜時依基板與蒸鍍材料可先使用RF電漿與離子槍照射來使蒸鍍有更高的密著度。但是、被蒸鍍物是樹的時候這樣做會造成反效果,因此在被蒸鍍物的材質不明確下必須進行調查與事前的實驗以免造成失敗。

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本公司成立於1988,專業從事各種真空設備製造,及設計研發.近年來更致力

真空sputtering磁控濺射鍍設備,及真空PVD離子濺鍍機,之研發製造.以期使真空鍍膜產業能夠更上層樓,自行設計製造:ARC電弧蒸發電源,SPUTTERING磁控濺射靶,及相關電源的使用,DC-PLASMA直流高壓脈衝電源,等相關產品之銷售服務,2000年分別成立:東莞虎門廠及台灣桃園鍍膜廠,從事各種薄膜製程如:EMI.ITO.TiN.CrN,陶瓷.金屬.塑膠.玻璃.3C電子產品.膜具.汽機車零件如反射燈罩,輪圈,手機按鍵,面版,UV COATING及噴塗等應用,與製程的研究,並且提供客戶先期開發設計,及樣品試做,鍍膜打樣服務.歡迎各界先進來電指教

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