EMI COATING
厚昌真空科技有限公司 比撒列科技興業有限公司
本公司成立於1988年,專業從事各種真空設備製造,及設計研發.近年來更致力 真空磁控濺鍍設備,及真空離子濺鍍機,之研發製造.以期使真空鍍膜產業能夠更 上層樓,自行設計製造:電弧蒸發電源功應器,磁控濺射靶,及相關電源的使用,直流 高壓脈衝電源,等相關產品之銷售服務,2000年分別成立:東莞虎門廠及台灣桃園鍍膜工廠,2013成立比撒列科技興業有限公司,專業從事各種鍍膜如:EMI.ITO.TiN.CrN,陶瓷.金屬.塑膠.玻璃.3C電子產品.膜具.汽機車零件如反射燈罩,輪圈,手機按鍵,面版,UV COATING及噴塗等應用與,製程的研究,並且提供客戶先期開發設計,及樣品試做,鍍膜打樣服務.歡迎各界先進來電指教 物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition;PVD),意指在真空條件下,用物理的方法將蒸發源材料蒸發,如加熱、電子束、離子束、濺射、電弧等,使材料蒸發後,氣體原子或電漿型態,經由真空、低壓氣體或電漿環境,利用氣體放電是靶材蒸鍍,輸送至基材表層,再於表面沉積形成鍍膜。 目前PVD鍍膜技術主要應用至裝飾鍍膜和工具鍍膜2大類;其中裝飾鍍膜的目的主要是為了改善工件的外觀耐用性能和色澤不同的要求,使該物件更耐磨、耐腐,進而延長其使用壽命;另方面主要應用於五金行業,包括門窗五金、工具、衛浴五金等行業。 工具鍍的目的主要是為了提高物件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系數,提高使用壽命,包括各種刀剪、切削刀具(如铣刀、刨刀、鑽刀、切割刀 等)、各種五金工具(如螺絲刀、鉗子等)及各種模具等產品。 在達真空的容器中、將欲蒸鍍的材料加熱直至汽化昇華、並使此氣體附著於放置在附近的機板表面上、型成一層薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為、抵抗加熱、電子束、高周波誘導、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產生光學特性薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹脂和樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙也變成可以處理了。 成膜時依基板與蒸鍍材料可先使用RF電漿與離子槍照射來使蒸鍍有更高的密著度。但是、被蒸鍍物是樹的時候這樣做會造成反效果,因此在被蒸鍍物的材質不明確下必須進行調查與事前的實驗以免造成失敗。 RF電漿加工法為真空槽內加入氬與氧氣,使已經離子化的被蒸鍍物表面變質(RF離子化)。而離子槍加工法是在離子槍內部加入氬與氧氣後在離子化的基板表面設置開有φ1mm左右小孔的畫素電極,而後將離子槍往該處照射進行加工(IAD:Ion Assist Deposition) 將容器真空化的作用為,蒸鍍材料的分子在到達基板之前,避免與容器內殘存的氣體分子發生衝突,以及可以降低蒸鍍材料的蒸發溫度。一般需要10-3~10-4 Pa程度的真空度,要達成真空情況需使用真空幫浦。 蒸鍍時的量測膜厚有使用分光學反射與折射率來計算與以水晶震動分子的蒸鍍材料的振動數變化來測量膜厚等方法。 真空蒸鍍的用途 光學薄膜(眼鏡與鏡片的反射防止膜、特殊鏡子等)、磁帶(錄音、錄影帶等)、構成顯示器的電極・半導體膜・絶縁膜等(電漿電視與有機EL、液晶顯示器)、手機、PDA的螢幕表面・裝飾表面用的塗層、電子零件(電容、半導體集積迴路等)、食品包裝材料(裝餅乾糖果用的袋子有的蒸鍍上一層鋁膜)、以至於新穎材料與建材、各式各樣範圍廣泛接可使用此加工法。電子顕微鏡的標本在製作時也使用此加工法。
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